Wafer grafitbærer
Jincheng Graphite, som en professionel producent af wafer-grafit-bærere, leverer wafer-grafit-bærere med høj-renhed og høj-stabilitet. Den er specielt designet til høje-temperaturprocesser i halvlederfremstilling, med fremragende termisk ensartethed, korrosionsbestandighed og lang levetid. Det er meget udbredt inden for præcisionsområder som waferbehandling og litografi.
Kernestyrker
Nano-skala grafitsubstrat
Ved at anvende en grafit med høj-renhed (med et kulstofindhold på mere end eller lig med 99,99%) og en metalkompositproces, når den termiske ledningsevne op til 300 W/m·K, hvilket sikrer ensartet temperatur på waferoverfladen og reducerer risikoen for vridning forårsaget af termisk stress.
Vakuummiljøkompatibilitet
Tolererer et ekstremt temperaturområde på -200 grader til 3000 grader, velegnet til vakuumprocesser såsom litografi og ætsning, og har fremragende korrosionsbestandighed, kompatibel med kemiske gasser såsom brint og nitrogen.
Tilpasset tilpasningsevne
Understøtter forskellige waferstørrelser (såsom 12-tommer og 8-tommer) og specielle overfladebehandlingsprocesser, der opfylder præcise krav til forskellige halvlederfremstillingsscenarier.
Applikationsscenario
Wafer litografi proces
Under påføringen af fotoresist giver grafitbæreren et stabilt termisk distributionsmiljø, hvilket reducerer waferens deformationsproblemer forårsaget af temperaturforskelle.
Høj-temperatur ætsningsudstyr
Under plasmaætsning kan bærerens høje termiske ledningsevne hurtigt sprede varme, hvilket beskytter waferoverfladen mod skader forårsaget af høje temperaturer.
Vakuumaflejringssystem
Kompatibel med CVD, PVD og andre processer, hvilket sikrer, at waferen bevarer fladheden under høj-temperaturaflejring og forbedrer udbyttehastigheden.
Tekniske specifikationer
| Termisk ledningsevne | 250 - 400 W/m·K (kan tilpasses) |
| Driftstemperaturområde | -200 grader til 3000 grader |
| Forenelige gasser | Hydrogen, nitrogen, argon osv. (halvlederprocesgasser) |
| Overfladebehandling | Plasma polering/belægning (valgfrit) |
Jincheng Graphite Technology Assurance
Baseret på 20 års erfaring med forskning og udvikling af grafitmaterialer, anvender Jincheng Graphite patenteret vakuumkompositteknologi og nanometer-grafitfyldningsteknologi for at sikre den langsigtede-stabilitet af bæreren under ekstreme forhold. Produktet har bestået ISO 9001 kvalitetssystemcertificering og AS9100 luftfartsstandarder, der opfylder de strenge krav til halvlederfremstilling til termisk styring.
Samarbejdsforpligtelse
Jincheng Graphite tilbyder en komplet-procestilpasset service fra design, produktion til-eftersalg, understøtter små-batchprøveproduktion og stor-tilpasning, hvilket sikrer en kort leveringscyklus og kontrollerbare omkostninger. Gennem det globale logistiknetværk og lokale serviceteams giver det kunderne effektive og pålidelige wafer-grafit-bærerløsninger, der hjælper med at opgradere halvlederfremstillingsprocesser.
Populære tags: wafer fremstilling grafit, Kina wafer fremstilling grafit producenter, leverandører, fabrik
