Grafit skiveholder

Send forespørgsel
Grafit skiveholder
Detaljer
Høj-renhed, isostatisk pressende grafitbærerskive, det er en dedikeret understøttende bakke, pudebase og flowstyrende bæreskive til karbonisering og grafitisering af negative elektrodematerialer. Det bruges sammen med grafitdigler/grafitkasser til stabling af hele-ovne. Det understøtter materialeboksen og fordeler trykket og temperaturen jævnt inde i ovnen. Det er et vigtigt-bærende og varme-tilbehør til grafitiseringsovne med høj-temperatur.
Produkt klassificering
Grafitform
Share to
Beskrivelse
Graphite Carrier

Med fokus på avancerede-felter såsom halvledere, integrerede kredsløb og chipfremstilling udvikler vi høj-renhed, høj-fladhed og høj-stabilitet af wafer-grafitbæreplader. Specielt designet til nøgleprocesser af 2-12 tommer wafere, herunder aflejring, ætsning, udglødning og ionimplantation, er de kernekomponenter, der sikrer waferbehandlingspræcision og udbyttehastighed.

✅ Ekstrem høj renhed og lav urenhed: Fremstillet af nålekoks med høj-renhed, behandlet ved 3000 graders høj-temperaturgrafitisering, askeindhold Mindre end eller lig med 20 ppm, hvilket eliminerer metalurenhedsforurening af wafere og sikrer stabilitet for chippræstation;​

✅ Ultra-Høj planhedspræcision: Gennem præcis CNC-bearbejdning og -slibning, planhedsfejl Mindre end eller lig med ±0,005 mm, overfladeruhed Ra Mindre end eller lig med 0,2μm, hvilket garanterer ensartet kraft og varmeledning af wafere;​

er 50 KVA.

 

✅ Stærk anti-oxidations- og korrosionsbestandighed: Vedtagelse af speciel keramisk belægningsteknologi på overfladen, modstandsdygtig over for 1200 grader høj temperatur og plasmakorrosion, levetid 4-6 gange længere end almindelige grafitplader;​

✅ Tilpasset tilpasning: Understøtter tilpasning af forskellige waferstørrelser (2/4/6/8/12 tommer), hulfordeling og tykkelsesspecifikationer, kompatibel med forskelligt halvlederudstyr såsom CVD, PVD og ætsemaskiner.​

I overensstemmelse med halvlederindustriens strenge standarder implementerer vi raffineret kvalitetskontrol gennem hele processen fra rensning af råmaterialer, støbebearbejdning til inspektion af færdigt produkt. Vi leverer pålidelige og effektive grafitbærerpladeløsninger til globale halvledervirksomheder, der hjælper med at forbedre chipfremstillingsudbyttet og produktionseffektiviteten.

Graphite Carrier

 

Grafitbærerskive (specifikt til lithiumbatteriets negative elektrode, en grafitbærerskive til at holde den negative elektrode)
Graphite Carrier
Ultra-høj renhed med få urenheder, forurener ikke den negative elektrode
Kulstofindhold Større end eller lig med 99,95 %, op til 99,99 % for high-produkter
Askeindhold Mindre end eller lig med 50 ppm, Mindre end eller lig med 5 ppm for silicium-carbonanode
Samlede urenheder frigivet ved 2800 grader < 0,08%, påvirker ikke anodens indledende effektivitet og cykluslevetid
New Energy Graphite Molds
Stærk modstandsdygtighed over for ultra-høje temperaturer
Langsigtet-stabil driftstemperatur: 2600 - 2800 grad
Kort-maksimal temperaturmodstand: 3000 grader, ingen blødgøring, ingen krybning, ingen deformation
Aluminum Die Casting Mold
Lav termisk udvidelse, fremragende termisk stødmodstand
Lineær ekspansionskoefficient: 2.2 - 3.2 × 10⁻⁶/ grad
Ingen revner eller deformation efter 35 cyklusser med hurtig afkøling og opvarmning ved 1300 grader
Samlet flad deformation efter brug Mindre end eller lig med 0,3 mm/m
Engine Graphite Mold
Høj densitet og høj styrke, stærk-lastbærende kapacitet
Volumentæthed: 1.78 - 1.86g/cm³
Trykstyrke ved stuetemperatur Større end eller lig med 50MPa, 2000 grader høj-temperaturstyrke øges med 32 %
Enkelt standarddisk kan ensartet bære en belastning på op til 800 kg, flerlagsstabling uden at revne eller falde sammen.

 

Hjælp FAQ
Fælles problem
  • Vigtigste anvendelsesindustrier

    1. Lithium batteri anode materiale industri (dominerende)
    Kunstig grafit anode, naturlig grafit anode, silicium- carbon anode, blød carbon og hård carbon anode
    Anvendes til bundunderstøtning af interne grafitsintringsovne, skubbeovne og kasse-højtemperaturovne-
    2. Energi lagring batteri materiale industri
    Høj-energilagringsanode til høj-temperatursintring, grafitiseringsunderstøttelse, sikring af kvaliteten af ​​et stort antal masse-producerede produkter
    3. Ny kulstofmaterialeindustri
    Høj-rent ledende kulstofpulver, specielt kulstofpulver, nano-kulstofmaterialer til høj-temperatur varmebehandlingsstøtte
    4. Høj-temperaturpulversintringsindustri
    Keramisk pulver, sjældent metalpulver, carbidpulver inert atmosfære høj-temperaturstøtte til sintring

 

Huixian Jincheng slibe- og grafitstøbefabrik

Huixian Jincheng slibe- og grafitstøbefabriker en professionel producent med speciale itilpasset grafitbearbejdning og grafitkomponenter til høje-temperaturindustrier.

Grundlagt i1984, vores fabrik ligger iHuixian City, Henan-provinsen, Kina, en af ​​de vigtige industrielle regioner for grafitbehandling og avanceret materialefremstilling.

Med næsten30 års erfaring med grafitbearbejdning, har vi udviklet stærke evner til at producerehøjpræcisions grafitdele til flere industrier, herunder vakuumovne, halvlederudstyr, metallurgi, fotovoltaisk krystalvækst, EDM-bearbejdning og nye energimaterialer.

Professionelt team

30+ eksperter over hele verden

Vi har 30 ekspertteams og et eksportserviceteam på 40 personer.

7x24 timers levering

Beliggende i 27 byer rundt om i verden, med 50 leveringscentre, der leverer 200+ sprog, 7x24 timers leveringskapacitet, er den bedste partner til globalisering af virksomheder

modular-1

 

 

 

 

Populære tags: Graphite disc carrier, Kina Graphite disc carrier fabrikanter, leverandører, fabrik

Send forespørgsel